为什么EUV光刻机是涨价周期的核心密码？

EUV光刻机之所以能主导芯片产业涨价周期，核心在于技术垄断与产能错配的双重硬约束。ASML最新High-NA EUV光刻机进度明确：大规模量产要推迟到2027-2028年，2026年仅交付5-10台用于研发 。按单台月产能2万片晶圆计算，每延迟一个月，全球先进制程产能缺口就扩大超20万片，直接推高芯片代工报价。

没有先进EUV，厂商只能用DUV搞多重曝光技术——这就像用乐高积木拼复杂造型，明明一块高级积木能搞定，却要靠多块普通积木反复拼接。SAQP四重曝光虽能勉强实现7nm制程，但工序从20道增至80道，缺陷率翻倍，综合成本比EUV高30%-50%，旧设备的剩余价值被极致榨取，却依然填不满产能缺口。

中国DUV自主化正在打破定价僵局。上海微电子28纳米DUV已实现85%国产化率，交付周期仅3个月，成本远低于ASML同类产品。ASML积压的839亿元中国DUV订单加速交付，却难改EUV垄断格局。毕竟1.8nm以下先进制程仍依赖EUV，而全球年出货量不足60台，叠加关税导致设备成本上涨15%，涨价周期自然难以逆转。